发明名称 CMP slurry composition for the phase change memory materials and polishing method using the same
摘要
申请公布号 KR100943020(B1) 申请公布日期 2010.02.17
申请号 KR20070065874 申请日期 2007.06.29
申请人 发明人
分类号 C09K3/14 主分类号 C09K3/14
代理机构 代理人
主权项
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