光刻工艺的监控方法及系统

摘要

本发明提供一种光刻工艺的自动监控方法及系统，其中监控方法包括以下步骤：a.采集工序单元动作的时间；b.存储工序单元动作的时间；c.判断动作的工序单元是否为监控工序单元，其中，若为监控工序单元，执行步骤d，若否，则执行步骤a；d.按监控时间参数与监控的工序单元动作时间的关系式，计算监控时间参数；e.判断步骤d计算出的监控时间参数是否符合标准时间范围，其中若不符合标准时间范围则暂停监控的工序单元。其中监控系统包括以下模块：工序单元触发模块、数据采集模块，数据存储模块、判断模块、计算模块、比较模块和控制模块。本发明可解决传统光刻工艺无法实现工序单元时间参数监控的问题。

主权项

1、一种光刻工艺的自动监控方法，用于光刻工艺装置中执行的工序单元时间参数的监控，其特征在于，它包括以下步骤：a、采集工序单元动作的时间；b、存储工序单元动作的时间；c、判断动作的工序单元是否为监控工序单元，其中，若为监控工序单元，执行步骤d，若否，则执行步骤a；d、按监控时间参数与监控的工序单元动作时间的关系式，计算监控时间参数；e、判断步骤d计算出的监控时间参数是否符合标准时间范围，其中若不符合标准时间范围则暂停监控的工序单元。