发明名称 直写光刻装置
摘要 本发明公开了一种直写光刻装置,包括有可编程的空间图形发生器,有投影光学系统,精密移动平台,精密移动平台上承载有光敏感衬底,所述的可编程的空间图形发生器由自发光的OLED构成,所述OLED由多个可进行单独控制开关的光源阵列构成,所述的OLED通过计算机控制,使各个微光源发光或不发光,进行调制,产生一定的空间光强的特征结构图,所述特征结构图通过投影光学系统被以一定精缩比例投影到光敏感衬底上。本发明直接使用可编程的空间图形发生器OLED,不需要另外曝光的照明光源和复杂的曝光照明系统的直写光刻装置,从而使得整机的体积缩小,结构紧凑,降低成本,减少系统装调难度和系统的维护成本。
申请公布号 CN101650535A 申请公布日期 2010.02.17
申请号 CN200910145009.0 申请日期 2009.09.18
申请人 芯硕半导体(中国)有限公司 发明人 何少锋;靳莉
分类号 G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 代理人 余成俊
主权项 1、一种直写光刻装置,包括有可编程的空间图形发生器,投影光学系统,精密移动平台,精密移动平台上承载有光敏感衬底,其特征在于:所述的可编程的空间图形发生器由多个自发光的OLED构成平面光源阵列,所述的各个OLED单独设有开关通过计算机控制,使各个OLED发光或不发光,进行调制,产生一定的空间光强的特征结构图,所述特征结构图通过投影光学系统被以一定精缩比例投影到光敏感衬底上。
地址 230601安徽省合肥市经济技术开发区锦绣大道
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