发明名称 一种非晶镧镥氧化物阻变薄膜及其制备方法和应用
摘要 一种制备非晶镧镥氧化物阻变薄膜材料的方法,镧镥氧化物陶瓷靶材的制备:在将占混合粉末总摩尔量40-60%的La<sub>2</sub>O<sub>3</sub>和40-60%的Lu<sub>2</sub>O<sub>3</sub>粉末均匀混合后,球磨12-15小时,然后在1200℃-1400℃进行预烧结,再次研磨后在1500℃-1800℃烧结12-18小时,制成镧镥氧陶瓷靶材;将镧镥氧化物陶瓷靶材固定在脉冲激光沉积制膜系统装置生长室中,用真空泵将生长室抽真空到5.0×10<sup>-4</sup>Pa以下;用电炉丝将衬底台加热至300~500℃;启动激光器,使激光束通过聚焦透镜聚焦在镧镥氧化物陶瓷靶材上,在衬底上沉积厚度为30nm~500nm厚的非晶镧镥氧化物薄膜。
申请公布号 CN101649443A 申请公布日期 2010.02.17
申请号 CN200910184700.X 申请日期 2009.08.28
申请人 南京大学 发明人 李魁;夏奕东;国洪轩;高旭;殷江;刘治国
分类号 C23C14/28(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;H01L45/00(2006.01)I 主分类号 C23C14/28(2006.01)I
代理机构 南京经纬专利商标代理有限公司 代理人 李纪昌
主权项 1.一种制备非晶镧镥氧化物阻变薄膜材料的方法,其特征在于制备步骤为:a.镧镥氧化物陶瓷靶材(4)的制备:在将占混合粉末总摩尔量40-60%的La2O3和40-60%的Lu2O3粉末均匀混合后,球磨12-15小时,然后在1200℃-1400℃进行预烧结,再次研磨后在1500℃-1800℃烧结12-18小时,制成镧镥氧陶瓷靶材(4);b.将镧镥氧化物陶瓷靶材(4)固定在脉冲激光沉积制膜系统装置生长室(6)中,用真空泵将生长室(6)抽真空到5.0×10-4Pa以下;c.用电炉丝将衬底台(8)加热至300~500℃;d.启动激光器(2),使激光束通过聚焦透镜(3)聚焦在镧镥氧化物陶瓷靶材(4)上,在衬底(1)上沉积厚度为30nm~500nm厚的非晶镧镥氧化物薄膜。
地址 210093江苏省南京市汉口路22号