发明名称 |
一种非晶镧镥氧化物阻变薄膜及其制备方法和应用 |
摘要 |
一种制备非晶镧镥氧化物阻变薄膜材料的方法,镧镥氧化物陶瓷靶材的制备:在将占混合粉末总摩尔量40-60%的La<sub>2</sub>O<sub>3</sub>和40-60%的Lu<sub>2</sub>O<sub>3</sub>粉末均匀混合后,球磨12-15小时,然后在1200℃-1400℃进行预烧结,再次研磨后在1500℃-1800℃烧结12-18小时,制成镧镥氧陶瓷靶材;将镧镥氧化物陶瓷靶材固定在脉冲激光沉积制膜系统装置生长室中,用真空泵将生长室抽真空到5.0×10<sup>-4</sup>Pa以下;用电炉丝将衬底台加热至300~500℃;启动激光器,使激光束通过聚焦透镜聚焦在镧镥氧化物陶瓷靶材上,在衬底上沉积厚度为30nm~500nm厚的非晶镧镥氧化物薄膜。 |
申请公布号 |
CN101649443A |
申请公布日期 |
2010.02.17 |
申请号 |
CN200910184700.X |
申请日期 |
2009.08.28 |
申请人 |
南京大学 |
发明人 |
李魁;夏奕东;国洪轩;高旭;殷江;刘治国 |
分类号 |
C23C14/28(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;H01L45/00(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/28(2006.01)I |
代理机构 |
南京经纬专利商标代理有限公司 |
代理人 |
李纪昌 |
主权项 |
1.一种制备非晶镧镥氧化物阻变薄膜材料的方法,其特征在于制备步骤为:a.镧镥氧化物陶瓷靶材(4)的制备:在将占混合粉末总摩尔量40-60%的La2O3和40-60%的Lu2O3粉末均匀混合后,球磨12-15小时,然后在1200℃-1400℃进行预烧结,再次研磨后在1500℃-1800℃烧结12-18小时,制成镧镥氧陶瓷靶材(4);b.将镧镥氧化物陶瓷靶材(4)固定在脉冲激光沉积制膜系统装置生长室(6)中,用真空泵将生长室(6)抽真空到5.0×10-4Pa以下;c.用电炉丝将衬底台(8)加热至300~500℃;d.启动激光器(2),使激光束通过聚焦透镜(3)聚焦在镧镥氧化物陶瓷靶材(4)上,在衬底(1)上沉积厚度为30nm~500nm厚的非晶镧镥氧化物薄膜。 |
地址 |
210093江苏省南京市汉口路22号 |