| 发明名称 |
COMPOSITION FOR FORMING RESIST LOWER LAYER FILM |
| 摘要 |
Provided is a composition for forming a resist lower layer film. The composition contains (A) a resin, (B) a cross-linking agent having a butyl-ether group and (c) a solvent. |
| 申请公布号 |
KR20100017384(A) |
申请公布日期 |
2010.02.16 |
| 申请号 |
KR20097024641 |
申请日期 |
2008.05.21 |
| 申请人 |
JSR CORPORATION |
发明人 |
YOSHIMURA NAKAATSU;KONNO YOUSUKE |
| 分类号 |
G03F7/11 |
主分类号 |
G03F7/11 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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