| 发明名称 |
Aufdampfmaterial, enthaltend Ta2Ox mit x = 4.81 bis 4.88, zur Herstellung hochbrechender Schichten |
| 摘要 |
<p>Evaporating material (I) comprises tantalum oxide compound. Evaporating material (I) comprises tantalum oxide compound of formula (Ta 2O x). x : 4.81-4.88. Independent claims are also included for the preparation of (I).</p> |
| 申请公布号 |
DE502005008772(D1) |
申请公布日期 |
2010.02.11 |
| 申请号 |
DE20055008772T |
申请日期 |
2005.09.16 |
| 申请人 |
MERCK PATENT GMBH |
发明人 |
FRIZ, MARTIN DR.;ANTHES, UWE;DOMBROWSKI, REINER |
| 分类号 |
H01L31/0216;C01G35/00;C23C14/34 |
主分类号 |
H01L31/0216 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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