发明名称 用于平板显示器的像差可校正大视场投影光学系统
摘要 一种用于制作平板显示器(FPD)的曝光系统,包括适宜支承掩模版的掩模版台。一个基板台,适宜支承基板。一个反射光学系统,适宜把掩模版成像在基板上。该反射光学系统包括:包含第一反射镜及第二反射镜的主反射镜,和副反射镜。当把掩模版的像通过第一反射镜、副反射镜、和第二反射镜的反射,投射在基板上时,该反射光学系统有足够的自由度用于调整和校正三级像差。
申请公布号 CN100587601C 申请公布日期 2010.02.03
申请号 CN200410061767.1 申请日期 2004.06.30
申请人 ASML控股股份有限公司 发明人 罗伯特·D·哈恩德;帕特里克·得·加格;桂程群
分类号 G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 王波波
主权项 1.一种用于制作平板显示器的曝光系统,包括:掩模版台,适宜支承掩模版,该掩模版被配置成图形化一个辐射束;基板台,适宜支承基板;反射光学系统,适宜把所述图形化辐射束引导到所述基板上,所述反射光学系统包含主反射镜和副反射镜,主反射镜包含第一反射镜和第二反射镜;第一校正器,包括位于掩模版台与主反射镜之间的平行玻璃板、或平行玻璃板与凹凸透镜对、或具有非球面外形的名义平面反射镜、或会聚反射镜;和第二校正器,包括位于基板台与主反射镜之间的平行玻璃板、平行玻璃板与凹凸透镜对、具有非球面外形的名义平面反射镜、或会聚反射镜;其中,当把掩模版的像通过第一反射镜、副反射镜、和第二反射镜的反射,投射在基板上时,所述反射光学系统有足够的自由度用于调整和校正像差。
地址 荷兰费尔德霍芬