| 发明名称 | 使用掩模材料在基底上形成功能性材料的图案的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供在基底(34)上形成功能性材料(46)的图案(55)以用于电子器件和组件的方法。所述方法使用具有浮雕结构的印模将掩模材料(32)转移到基底(34)上并且在基底(34)上形成开放区域(42)的图案。将功能性材料(46)施加到基底(34)上的至少开放区域(42)中。使粘合剂材料(52)接触与基底(34)相对的外表面(56)并且将粘合剂从基底分离，从而在基底(34)上形成功能性材料(46)的图案(55)。所述方法适合于制造用于电子器件和组件的微电路。 | ||
| 申请公布号 | CN101641219A | 申请公布日期 | 2010.02.03 |
| 申请号 | CN200880009181.7 | 申请日期 | 2008.04.07 |
| 申请人 | E.I.内穆尔杜邦公司 | 发明人 | G·B·布朗谢特;李喜现 |
| 分类号 | B41M3/00(2006.01)I;B41M5/03(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I;B41F17/00(2006.01)I;H05K3/00(2006.01)I | 主分类号 | B41M3/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 朱黎明 |
| 主权项 | 1.在基底上形成功能性材料的图案的方法，所述方法包括：a)提供具有浮雕结构的弹性印模，所述浮雕结构具有凸起表面；b)将掩模材料施加到所述浮雕结构的至少所述凸起表面上；c)将所述掩模材料从所述凸起表面转移到所述基底上，从而在所述基底上形成开放区域的图案；d)将所述功能性材料施加到所述基底上的至少所述开放区域上，从而形成与所述基底相对的功能性材料的外表面；e)使粘合剂与所述功能性材料的外表面接触；以及f)将所述粘合剂与所述基底分离，以便从所述基底上移除至少所述掩模材料。 | ||
| 地址 | 美国特拉华州 | ||