发明名称 |
一种检测半导体晶片从静电卡盘上释放程度的方法 |
摘要 |
本发明提供了一种检测半导体晶片从静电卡盘上释放程度的方法,具体为:在半导体晶片与静电卡盘的接触面间通入气体,并将检测到的气体漏率和设定的漏率阈值进行比较,从而根据比较结果来判断半导体晶片的释放程度。以上检测方法能够有效的判断半导体晶片从静电卡盘上的释放程度,然后根据释放程度做出相应的操作,避免了半导体晶片发生跳动或移位的现象,减少了事故发生率,保证了半导体晶片在传输过程中更加地安全可靠。 |
申请公布号 |
CN100587907C |
申请公布日期 |
2010.02.03 |
申请号 |
CN200710062688.6 |
申请日期 |
2007.01.12 |
申请人 |
北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
发明人 |
刘利坚 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01)I;H01L21/66(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京凯特来知识产权代理有限公司 |
代理人 |
郑立明;姚 巍 |
主权项 |
1、一种检测半导体晶片从静电卡盘上释放程度的方法,其特征在于,在从静电卡盘上释放半导体晶片后,包括如下步骤:A:在半导体晶片与静电卡盘的接触面间通入气体;B:检测气体漏率;C:判断气体漏率是否大于设定的漏率阈值,如是,则输出半导体晶片释放完全的结果;否则,输出半导体晶片未完全释放的结果;所述的步骤C中设定的漏率阈值为1~10SCCM。 |
地址 |
100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5座2楼 |