发明名称 |
信息记录介质及其制备方法 |
摘要 |
在本发明的信息记录介质中,在基片(1)的一面上形成有记录层(4)和第一介电层(2)和第二介电层(6)。在记录层中,通过光照射或施加电能来进行信息的记录和/或再生。所述介电层是:含有选自由Sn、Ga和Zn组成的GM组中的至少一种元素的氧化物,和选自由Al、Si和B组成的GL组中的至少一种元素的氧化物和/或氮化物的氧化物基材料层或氧化物-氮化物基材料层;或含有选自La和Ce中的至少一种元素的氟化物,和选自GM组中的至少一种元素的氧化物的氧化物-氟化物基材料层。 |
申请公布号 |
CN100587820C |
申请公布日期 |
2010.02.03 |
申请号 |
CN200410058643.8 |
申请日期 |
2004.07.26 |
申请人 |
松下电器产业株式会社 |
发明人 |
土居由佳子;儿岛理惠;山田昇 |
分类号 |
G11B7/24(2006.01)I;G11B7/26(2006.01)I |
主分类号 |
G11B7/24(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 |
代理人 |
于 辉 |
主权项 |
1.一种包括基片和记录层的信息记录介质,通过光照射或施加电能,其可以对信息进行记录和/或再现,所述信息记录介质还包括含有Ga,选自由Al、Si和B组成的GL组中的至少一种元素,氧(O),和任选的氮的材料层。 |
地址 |
日本大阪府 |