发明名称 光电元件粗化结构、粗化表面、粗化层及其制造方法
摘要 本发明提供光电元件粗化结构、粗化表面、粗化层及其制造方法。本发明提供一种具有双重尺度粗化结构的光电元件,其在光电元件的半导体层外延过程中,通过高浓度掺杂杂质,以使此半导体层成长出多个岛体。随后,降低外延温度以持续在多个岛体上形成多个针孔,其中针孔分布于岛体的顶部与侧面,可大幅降低光线在光电元件内部的全反射率,进而增加光电元件的光强表现。而和传统技术相比较而言,本发明提出的工艺具有低污染、工艺简单、成本低廉、光取出效率更佳、双重尺度出光面的有效面积较大等等优势。
申请公布号 CN101640235A 申请公布日期 2010.02.03
申请号 CN200810134490.9 申请日期 2008.07.30
申请人 先进开发光电股份有限公司 发明人 叶颖超;黄世晟;涂博闵;林文禹;吴芃逸;詹世雄
分类号 H01L33/00(2006.01)I 主分类号 H01L33/00(2006.01)I
代理机构 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人 陈 晨
主权项 1.一种光电元件粗化结构,包含:多个岛体,分布于该光电元件的半导体层上;以及多个针孔,分布于该多个岛体的顶部与侧面。
地址 中国台湾新竹县