基板处理方法和基板处理装置

摘要

本发明提供一种基板处理方法，预先测定被处理基板的红外线吸收率或红外线穿透率，根据该测定值，利用可相互独立控制地设置的第一区域和上述第二区域的温度调节单元，至少对被处理基板部的第一区域和其外侧的第二区域独立地调节温度，并对被处理基板进行处理。

主权项

1.一种基板处理方法，在处理容器内对被处理基板进行目的处理，其特征在于：预先通过在所述处理容器之外测定向所述处理容器内搬送的所述被处理基板的红外线吸收率或红外线穿透率来测定被处理基板的热特性，并根据该测定值对被处理基板的多个区域独立地进行温度调节，对被处理基板进行处理，所述处理容器之外是指搬送室、负载锁定室、校准腔室中的任一者。