| 发明名称 | 像素结构、彩色滤光基板及其相应的制造方法 | ||
| 摘要 | 一种半穿透半反射型像素结构的制造方法，其包括下列步骤：首先，提供基板。基板具有至少一个穿透区及至少一个反射区。接着，在基板上方形成披覆层，其覆盖基板的穿透区与反射区。之后，进行压印工艺，以使对应穿透区的披覆层的厚度变得比对应反射区的披覆层厚度薄。 | ||
| 申请公布号 | CN101639583A | 申请公布日期 | 2010.02.03 |
| 申请号 | CN200810145007.7 | 申请日期 | 2008.08.01 |
| 申请人 | 奇美电子股份有限公司 | 发明人 | 林峰生;潘易民 |
| 分类号 | G02F1/1335(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;G02F1/1362(2006.01)I | 主分类号 | G02F1/1335(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 陈松涛;王 英 |
| 主权项 | 1、一种半穿透半反射型像素结构的制造方法，包括：提供基板，该基板具有至少一个穿透区和至少一个反射区；在所述基板上方形成披覆层，其覆盖所述基板的所述穿透区与所述反射区；以及进行压印工艺，以使对应于所述穿透区的所述披覆层的厚度变得比对应于所述反射区的所述披覆层的厚度薄。 | ||
| 地址 | 中国台湾台南县 | ||