| 发明名称 | 用于获得剖面的几何特征的测量装置和方法 | ||
| 摘要 | 一种用于获得剖面的至少一个几何特性的测量装置，具有产生至少第一光线(7)和第二光线(8)的装置，其中第一光线的照射方向不同于第二光线的照射方向，具有回射表面(3)，该回射表面相对于光源被设置为使得至少第一光线至少部分地入射到该回射表面上，具有能够获得第一光线中被回射表面反射的光线的至少一部分以及第二光线中被该回射表面/一个回射表面反射的光线的至少一部分在它们的横向延伸上的光强分布的记录装置(14)。 | ||
| 申请公布号 | CN101641566A | 申请公布日期 | 2010.02.03 |
| 申请号 | CN200880008308.3 | 申请日期 | 2008.02.11 |
| 申请人 | TEZET技术股份公司 | 发明人 | B·克诺贝尔;C·芬代森;K·莱斯特里茨 |
| 分类号 | G01B11/24(2006.01)I | 主分类号 | G01B11/24(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 赵 冰 |
| 主权项 | 1.一种用于获得剖面的至少一个几何特性的测量装置(1)，其特征在于，具有-产生至少第一光线和第二光线的装置，其中第一光线的照射方向不同于第二光线的照射方向，-回射表面，该回射表面相对于光源(10)设置为使得至少第一光线至少部分地入射到该回射表面上，-能够获得被回射表面反射的光线的至少一部分以及第二光线的至少一部分在它们的横向延伸上的光强分布的记录装置，或者能够获得第一光线中被回射表面反射的光线的至少一部分以及第二光线中被该回射表面/一个回射表面反射的光线的至少一部分在它们的横向延伸上的光强分布的记录装置。 | ||
| 地址 | 瑞士巴苏萨 | ||