| 发明名称 | 器件制造方法、光刻设备和计算机程序 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种器件制造方法，包括用由安装在可位移的掩模版台上的掩模版形成的图案化辐射束曝光衬底，其中所述方法包括步骤：确定用于相对于所述掩模版台逼近掩模版表面的高度和倾斜形状的非线性函数；在衬底曝光过程中，根据非线性函数控制所述掩模版台的位移。本发明还涉及一种光刻设备和计算机程序。 | ||
| 申请公布号 | CN101641645A | 申请公布日期 | 2010.02.03 |
| 申请号 | CN200880008283.7 | 申请日期 | 2008.03.14 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | A·奥德斯霍恩;R·布洛克;E·R·洛普斯卓;L·M·莱瓦西尔 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 王新华 |
| 主权项 | 1.一种器件制造方法，包括用由安装在可位移的掩模版台上的掩模版形成的图案化辐射束曝光衬底，其中所述方法包括步骤：-确定用于相对于所述掩模版台逼近掩模版表面的高度和倾斜形状的非线性函数；-在所述衬底曝光过程中根据所述非线性函数控制所述掩模版台的位移。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||