发明名称 |
基板处理室的盖组件 |
摘要 |
本创作系关于一种原子层沉积室,其包括气体分配器,该气体分配器包括具有在气体入口和气体出口间之圆锥形通路的中心覆盖。气体分配器亦具有顶板,其包括连接之第一与第二圆锥形孔。第一圆锥形孔从中心覆盖的气体出口接收处理气体。第二圆锥形孔从第一圆锥形孔向外径向延伸。该气体分配器亦具有坐落于室侧壁上的周边凸部。 |
申请公布号 |
TWM373363 |
申请公布日期 |
2010.02.01 |
申请号 |
TW098212749 |
申请日期 |
2008.09.30 |
申请人 |
应用材料股份有限公司 |
发明人 |
吴典晔;周司库柏特S;马伯方;托比恩杰弗瑞 |
分类号 |
C23C16/455;C23C16/54;H01L21/205 |
主分类号 |
C23C16/455 |
代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财;李世章 |
主权项 |
一种用于一基板处理室的盖组件,该盖组件包括:(a)一具有一底面的室盖;(b)一喷头,其匹配在该室盖之底面中,该喷头包括一中心孔;及(c)一气体分配器嵌入件,其匹配到该喷头之中心孔中,该嵌入件具有复数个相互间隔分开之径向狭槽。 |
地址 |
美国 |