| 发明名称 |
低照射相关透射性之合成矽石材料及其制造方法 |
| 摘要 |
本发明为合成矽石玻璃,其在193nm下具有低照射相关透射度,以及制造该玻璃之处理过程。玻璃当以248nm激发时需要地呈现出低数值之萤光性。玻璃需要地呈现出低数值LIWFD,[SiH*]及/或[ODC]。 |
| 申请公布号 |
TWI320032 |
申请公布日期 |
2010.02.01 |
| 申请号 |
TW095124083 |
申请日期 |
2006.06.29 |
| 申请人 |
康宁公司 |
发明人 |
答纳克雷布班德;肯尼埃德哈迪纳;里萨安莫;苏参李史奇费贝;幽力其纽克力奇;查里马利史密司;葛安依力考凯 |
| 分类号 |
C03C3/06;C03C4/00;C03B19/14;C03B32/00 |
主分类号 |
C03C3/06 |
| 代理机构 |
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代理人 |
吴洛杰 |
| 主权项 |
一种OH浓度低于900ppm重量比氢气含量为1x1016至6x1019分子/立方公分之不含氟合成矽石玻璃材料,当该材料暴露于193nm准分子雷射时量测之FDT(dK/dF)为小于1.0x10-4cm．脉冲/mJ。 |
| 地址 |
美国 |
