| 发明名称 |
二氧化矽系微粒子之制造方法、被膜形成用涂料及附被膜之基材 |
| 摘要 |
为了取得低折射率的二氧化矽系微粒子，作成于外壳内部具有空洞之中空且球状的二氧化矽系微粒子。将矽酸盐之水溶液和/或酸性矽酸液、和硷可溶之无机化合物水溶液同时添加于硷性水溶液中调制复合氧化物微粒分散液时，添加电解质盐至电解质盐之莫耳数(ME)与SiO2之莫耳数(MS)之比(ME/MS)达0.1~10之范围内后令粒子成长，其次，于该复合氧化物微粒子分散液中，视需要再加入电解质盐后，藉由加酸除去至少一部分构成该复合氧化物微粒子之矽以外的元素制造二氧化矽系微粒子。 |
| 申请公布号 |
TWI320027 |
申请公布日期 |
2010.02.01 |
| 申请号 |
TW093121015 |
申请日期 |
2004.07.14 |
| 申请人 |
日挥触媒化成股份有限公司 |
发明人 |
村口良;熊泽光章;平井俊晴;平井正文 |
| 分类号 |
C01B33/113 |
主分类号 |
C01B33/113 |
| 代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
| 主权项 |
一种二氧化矽系微粒子之制造方法，其特征为由下述步骤(a)及步骤(b)所构成，(a)令矽酸盐之水溶液和/或酸性的矽酸液，与硷可溶之无机化合物水溶液同时添加于硷水溶液中，或，视需要分散有种粒子之硷水溶液中，调制二氧化矽以SiO2表示，二氧化矽以外之无机氧化物以MOx表示时之莫耳比MOx/SiO2为0.3~1.0范围的复合氧化物微粒子分散液时，于复合氧化物微粒子之平均粒径变成为5~300nm之时将电解质盐以电解质盐之莫耳数(ME)与SiO2之莫耳数(MS)之比(ME/MS)达0.1~10之范围添加的步骤，(b)于前述复合氧化物微粒子分散液中，视需要再加入电解质盐后，加酸除去至少一部分构成前述复合氧化物微粒子之矽以外的元素，作成二氧化矽系微粒子分散液的步骤。 |
| 地址 |
日本 |
