发明名称 |
加热处理装置、加热处理方法、及电脑可读取之记忆媒体 |
摘要 |
一种能兼顾高均匀性及高制品生产量的加热处理装置及加热处理方法,及一种能进行重视高均匀性之处理及重视高制品生产量之处理两者的加热处理装置。此一加热处理装置具备:加热板121,用以将基板W加热;遮盖物123,将加热板121上方之空间予以围绕;排气流形成机构135、149,将遮盖物123内排气并于加热板121上方之空间形成排气流;下向流形成机构144、153,形成对加热板121上之基板W的顶面均匀地供给的下向流;控制机构155,控制使得就下列模式进行切换:一面藉由下向流形成机构144、153形成下向流一面加热基板W之模式,与一面藉由排气流形成机构135、149形成排气流一面加热基板W之模式。 |
申请公布号 |
TWI320088 |
申请公布日期 |
2010.02.01 |
申请号 |
TW095147445 |
申请日期 |
2006.12.18 |
申请人 |
东京威力科创股份有限公司 |
发明人 |
青木茂树;坂井佑一;山下光夫;新屋浩 |
分类号 |
F26B3/00;F26B19/00 |
主分类号 |
F26B3/00 |
代理机构 |
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代理人 |
周良谋;周良吉 |
主权项 |
一种加热处理装置,用以对基板进行加热处理,其特征在于:具有:加热板,用以将基板加热;遮盖物,围绕于该加热板上方之空间;第1气流形成机构,于该加热板上方之空间,形成主要目的在实现均匀加热处理之气流;及第2气流形成机构,于该加热板上方之空间,形成主要目的在将从基板产生之气体及/或昇华物排出除去之气流;且该第1气流形成机构与该第2气流形成机构可选择性地切换。 |
地址 |
日本 |