发明名称 ZUSAMMENSETZUNGEN UND VERFAHREN ZUR FOTOLACKABLÖSUNG UND RÜCKSTANDENTFERNUNG BEI VERKAPSELUNG AUF WAFEREBENE
摘要
申请公布号 DE602005018248(D1) 申请公布日期 2010.01.21
申请号 DE200560018248T 申请日期 2005.10.28
申请人 EKC TECHNOLOGY INC. 发明人 LEE, WAI MUN
分类号 H01L21/3213;C11D7/32;C11D11/00 主分类号 H01L21/3213
代理机构 代理人
主权项
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