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Die vorliegende Erfindung betrifft eine optische Einrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit einem optischen Modul und eine Stützstruktur, wobei die Stützstruktur das optische Modul abstützt. Das optische Modul umfasst ein optisches Element und eine Halteeinrichtung, wobei die Halteeinrichtung das optische Element hält. Die Halteeinrichtung umfasst eine Deformationseinrichtung mit einer Mehrzahl von aktiven Deformationseinheiten, welche das optische Element kontaktieren und dazu ausgebildet sind, dem optischen Element eine definierte Verformung aufzuprägen. Das optische Modul ist austauschbar an der Stützstruktur befestigt. |
