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Es wird ein Endblock für eine Magnetronanordnung mit einem rotierenden Target vorgeschlagen, der ein Endblockgehäuse mit einem Drehlager umfasst, wobei das Endblockgehäuse an seiner Außenseite zur Anbringung an einer Stützeinrichtung ausgebildet ist, und das Drehlager an seinem von außerhalb des Endblockgehäuses zugänglichen Ende zur Verbindung mit dem rotierenden Target ausgebildet ist, wobei die Anbringung des Endblockgehäuses an der Stützeinrichtung beweglich ausgebildet ist. Weiterhin wird bei einer Vakuumbeschichtungsanlage mit einer Vakuumkammer und einer in der Vakuumkammer angeordneten Magnetronanordnung mit einem rotierenden Target, welches an mindestens einem Endblock drehbar gelagert ist, vorgeschlagen, dass mindestens ein Endblock wie oben beschrieben ausgestaltet ist.
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