Verfahren zur Herstellung von mit Stickstoff dotiertem Quarzglas sowie zur Durchführung des Verfahrens geeignete Quarzglaskörnung

摘要

Bei einem bekannten Verfahren zur Herstellung von mit Stickstoff dotiertem Quarzglas wird ein SiO2-Basisprodukt in Form von SiO2-Körnung oder eines aus der SiO2-Körnung erzeugten, porösen Halbzeugs bereitgestellt und das SiO2-Basisprodukt in einem Heißprozess in einer ein stickstoffhaltiges Reaktionsgas enthaltenden Atmosphäre zu dem Quarzglas mit darin chemisch gebundenem Stickstoff verarbeitet. Hiervon ausgehend ist ein Verfahren anzugeben, mittels dem in Quarzglas eine Stickstoffdotierung mit einem möglichst hohen Anteil an chemisch gebundenem Stickstoff erreichbar ist. Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, dass als stickstoffhaltiges Reaktionsgas ein Stickoxid eingesetzt wird. Die für die Durchführung dieses Verfahrens besonders geeignete Quarzglaskörnung zeichnet sich dadurch aus, dass sie synthetisch erzeugte SiO2-Teilchen enthält, die eine Konzentration an Sauerstoffmangeldefekten von mindestens 2 x 1015 cm-3 aufweisen.