用于集成电路制造的曝光系统的校正方法和系统

摘要

一种用于集成电路制造的曝光系统的校正方法和系统，根据实施例，本发明提供了一种确定曝光系统的一个或者多个聚焦参数的方法。作为一个实例，所述曝光系统用于在半导体晶圆上形成图形，所述方法包括提供半导体晶圆，所述半导体晶圆具有一定的直径；所述方法还包括使用曝光系统在半导体晶圆上形成多个图形，作为一个实例，每一个图形和一个聚焦参考数值相关联(例如，聚焦距离、聚焦角度等)；所述方法还包括确定多个偏移轮廓，每个偏移轮廓和每一个图形相关联。

主权项

1.一种确定用于曝光系统的一个或者多个聚焦参数的方法，所述曝光系统用于在半导体晶圆上形成图形，所述方法包括：提供半导体晶圆，所述半导体晶圆具有一定的直径；使用曝光系统在所述半导体晶圆上形成多个图形，所述多个图形中的每个与聚焦参考数值相关联；确定多个偏移轮廓，每个偏移轮廓与所述多个图形中的一个相关联；根据所述多个偏移轮廓从所述多个图形中选取第一图形；根据所述第一图形确定用于所述曝光系统的聚焦参数。