| 发明名称 | 玻璃基板蚀刻装置 | ||
| 摘要 | 一种玻璃基板蚀刻装置，包括反应室、位于反应室内用于将玻璃基板垂直固定住的固定装置、与反应室相通的药液存储罐和与药液存储罐相通的药液循环系统，药液循环系统包括若干个喷嘴，其中所述喷嘴在每块玻璃基板的上方均布成一排。本发明的玻璃基板蚀刻装置将喷嘴设置在玻璃基板的上方，从上方进行喷射，通过喷嘴在下方的玻璃基板上形成均匀喷射的药液，使蚀刻药液顺着玻璃侧面流淌，该方式可实现0.3mm超薄型板的蚀刻作业，蚀刻过程中不会削弱玻璃基板的强度，也不会对玻璃基板造成破损。 | ||
| 申请公布号 | CN101630635A | 申请公布日期 | 2010.01.20 |
| 申请号 | CN200910169326.6 | 申请日期 | 2009.08.25 |
| 申请人 | 满纳韩宏电子科技（南京）有限公司;烟台韩宏电子科技有限公司 | 发明人 | 孔正镐;南重根 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;H01L21/311(2006.01)I;C03C15/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京双收知识产权代理有限公司 | 代理人 | 郭鸿雁 |
| 主权项 | 1、一种玻璃基板蚀刻装置，包括反应室、位于反应室内用于将玻璃基板垂直固定住的固定装置、与反应室相通的药液存储罐和与药液存储罐相通的药液循环系统，药液循环系统包括若干个喷嘴，其特征在于：所述喷嘴在每块玻璃基板的上方均布成一排。 | ||
| 地址 | 210046江苏省南京市南京经济技术开发区恒通大道47号 | ||