| 发明名称 | 无缝镭射膜及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种无缝镭射膜及其制备方法，其特征在于包括三层结构，由下至上的顺序依次为PET膜层、树脂涂层和铝层，其制备方法流程为PET膜层成型、涂布、模压、镀铝、复纸和印刷，在完成第一次模压后再进行一次模压，并在压辊中添加可注入水的管道以控制温度，通过上述方法制备的镭射膜不出现周期性的版缝，减少了后续生产的损耗，提高了生产效率。 | ||
| 申请公布号 | CN101628526A | 申请公布日期 | 2010.01.20 |
| 申请号 | CN200910052416.7 | 申请日期 | 2009.06.03 |
| 申请人 | 上海上塑控股（集团）有限公司 | 发明人 | 陈叔安 |
| 分类号 | B44C5/04(2006.01)I;B44C1/24(2006.01)I;B41M3/12(2006.01)I | 主分类号 | B44C5/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海精晟知识产权代理有限公司 | 代理人 | 何新平 |
| 主权项 | 1、一种无缝镭射膜，其特征在于包括三层结构，由下至上的顺序依次为载体层、镭射成像层和铝层。 | ||
| 地址 | 201414上海市奉贤区青村镇青港经济园区 | ||