湿法刻蚀中避免发生侧向侵蚀的方法

摘要

本发明提供一种湿法刻蚀中避免发生侧向侵蚀的方法，包括以下步骤：对衬底进行六甲基二硅胺疏水处理；在所述衬底上涂布一层抗反射材料；在所述抗反射材料上面涂布一层光刻胶；进行光刻处理，去除部分所述光刻胶；进行湿法刻蚀处理，去除未被光刻胶覆盖的所述抗反射材料，形成衬底刻蚀窗口；在所述衬底刻蚀窗口内侧涂布显影材料。本发明避免了在湿法刻蚀中侧向侵蚀的情况发生，保证了湿法刻蚀的质量。

主权项

1.一种湿法刻蚀中避免发生侧向侵蚀的方法，包括以下步骤：S1：对衬底进行六甲基二硅胺疏水处理；S2：在所述衬底上涂布一层抗反射材料；S3：在所述抗反射材料上面涂布一层光刻胶；S4：进行光刻处理，去除部分所述光刻胶；S5：进行湿法刻蚀处理，去除未被光刻胶覆盖的所述抗反射材料，形成衬底刻蚀窗口；其特征在于：步骤S5之后还包括步骤S6：在所述衬底刻蚀窗口侧壁上涂布显影材料。