| 发明名称 | 曝光装置 | ||
| 摘要 | 一种曝光装置，可准确把握由光的照射热而引起的光学系统的特性变动。本曝光装置是以自光源(1a)射出的光对被曝光物(7)进行曝光的曝光装置，其特征在于包括检测上述光的非曝光波长成分的光量的检测机构(12、13、9)。因此，即使曝光波长成分的光量与非曝光波长成分的光量单独变动，亦可准确把握由光学系统的照射热引起的特性变动。其结果，亦可实现高性能的镜片调整系统。 | ||
| 申请公布号 | CN100583394C | 申请公布日期 | 2010.01.20 |
| 申请号 | CN200680013662.6 | 申请日期 | 2006.05.15 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 白石雅之 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/027(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 寿 宁 |
| 主权项 | 1.一种曝光装置，利用自光源射出的一光对一被曝光物进行曝光，其特征在于，包括：一投影光学系统，配置于上述光源与上述被曝光物之间；一检测机构，该检测机构检测上述光的曝光波长成分的光量与非曝光波长成分的光量；一控制部，根据上述检测机构的输出，上述控制部推算上述投影光学系统的成像特性的变动量。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||