发明名称 光刻方法
摘要 本发明公开了一种在至少部分涂覆有抗蚀剂的衬底上形成环形密封的方法,所述方法包括加热衬底上的抗蚀剂环。所述抗蚀剂环被加热用于从抗蚀剂环上去除图案,或者防止被加热的抗蚀剂环被图案化。本发明还公开了一种光刻方法,包括步骤:通过加热衬底上的抗蚀剂环而在至少部分涂敷有抗蚀剂的衬底上形成环形密封。
申请公布号 CN100582948C 申请公布日期 2010.01.20
申请号 CN200710192794.6 申请日期 2007.11.20
申请人 ASML荷兰有限公司 发明人 基思·弗兰克·贝斯特;桂成群;戴维·克里斯多夫·奥克威尔;彼得·顿伯格
分类号 G03F7/20(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 王新华
主权项 1.一种在至少部分涂覆有抗蚀剂的衬底上形成环形密封的方法,所述方法包括利用加热装置加热衬底上的抗蚀剂环;所述加热装置被安装到支架上;在使用中,通过采用支架相对于衬底上的抗蚀剂定位加热装置,加热体被激活用于加热在加热装置和衬底之间的抗蚀剂的区段;抗蚀剂的不同区段通过利用支架移动加热装置、或者相对于加热装置移动衬底、或者将加热装置和衬底两者相对彼此移动而被加热。
地址 荷兰维德霍温