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发明名称 PHOTOSENSITIVE POLYSILSESQUIOXANE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR PATTERNING MEMBRANES USING THE SAME
摘要
申请公布号 KR100936998(B1) 申请公布日期 2010.01.15
申请号 KR20070105673 申请日期 2007.10.19
申请人 发明人
分类号 G03F7/028 主分类号 G03F7/028
代理机构 代理人
主权项
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