发明名称 | 光学邻近修正方法 | ||
摘要 | 一种光学邻近修正方法,在对电路图形修正时同时考虑边缘布置误差以及工艺窗口相关参数,例如光强斜率,并且选取对边缘布置误差敏感的子电路图形修正步骤进行针对性修正,而对另一子电路图形修正进行工艺窗口相关参数针对性修正。所述光学邻近修正方法对工艺窗口有明显助益。 | ||
申请公布号 | CN101625521A | 申请公布日期 | 2010.01.13 |
申请号 | CN200810040372.1 | 申请日期 | 2008.07.08 |
申请人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 发明人 | 朴世镇 |
分类号 | G03F1/14(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/14(2006.01)I |
代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 李 丽 |
主权项 | 1.一种光学邻近修正方法,其特征在于,包括下列步骤:根据所获得的初始边缘布置误差,执行第一子电路图形修正步骤,获得第一边缘布置误差;根据所述第一边缘布置误差,执行第二子电路图形修正步骤,获得第二边缘布置误差;比较第一边缘布置误差、初始边缘布置误差的差值与第二边缘布置误差、第一边缘布置误差的差值,以确定对边缘布置误差敏感的子电路图形修正步骤;执行对边缘布置误差敏感的子电路图形修正步骤;获得所述对边缘布置误差敏感的子电路图形修正步骤后的工艺窗口相关参数;对另一子电路图形,执行基于所述工艺窗口相关参数的子电路图形修正步骤。 | ||
地址 | 201210上海市浦东新区张江路18号 |