发明名称 真空装置、基板搬送方法
摘要 本发明提供一种省空间且能够搬送大型基板的真空装置。本发明的真空装置(20)各具有多个下部辊、推压辊及推压机构,基板(7)在搬送辊(23)和搬送辊(23)之间的位置被夹入下部辊和推压辊之间,因而基板(7)不翻倒。基板(7)与推压辊接触,回推推压辊,被夹入推压辊和下部辊之间,因而基板(7)被夹入时不破损。
申请公布号 CN101626969A 申请公布日期 2010.01.13
申请号 CN200880007493.4 申请日期 2008.02.20
申请人 株式会社爱发科 发明人 小泉敏行;新仓高一
分类号 B65G49/06(2006.01)I;H01L21/677(2006.01)I 主分类号 B65G49/06(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 严志军;杨松龄
主权项 1.一种真空装置,具有:真空槽;多个搬送辊,位于所述真空槽内的底壁侧,并沿着一搬送直线延伸的方向配置;多个上部辊,位于所述真空槽内的顶壁侧,并沿着所述搬送直线延伸的方向配置;以及旋转装置,以旋转轴线为中心而分别旋转所述搬送辊,所述搬送辊配置成所述旋转轴线相互平行地配置,侧面与同一搬送直线接触,当基板以从铅直轴线倾斜规定的倾斜角度并朝向沿着所述搬送直线的方向的搬送姿势载置在所述搬送辊的侧面上时,所述上部辊配置在侧面与所述基板的表面中的朝向下方的下表面接触的位置,所述搬送辊旋转,当所述搬送辊上的所述基板一边维持所述搬送姿势,一边向沿着所述搬送直线的方向移动时,所述上部辊以一边与所述基板的所述下表面的上部接触一边旋转的方式构成,其中,所述真空装置具有多个下部辊、多个推压辊及推压机构,所述下部辊的旋转轴线的位置相对于所述真空槽而静止,所述推压辊由所述推压机构以能够被回推的方式推压在所述下部辊上,所述下部辊的侧面配置在位于所述搬送辊之上且能够与所述搬送姿势的所述基板的所述下表面的下部接触的位置,如果所述基板以所述搬送姿势在所述搬送辊上移动,则所述基板回推所述推压辊而插入所述下部辊和所述推压辊之间,所述基板被所述下部辊和所述推压辊夹着,构成为一边旋转所述下部辊和所述推压辊,一边移动。
地址 日本神奈川县