对输入前级泵活性气体喷射系统的反应气体进行监测和控制的光谱技术的运用

摘要

本发明涉及一种真空处理系统，其中工艺气体被引入处理腔并且通过真空处理系统排气路径而排出。通过在受沉积物影响的装置的上游引入活性气体而减少或清除由排气气体形成的沉积物。通过测定受影响装置上下游排气气体成分的气相浓度而对所引入活性气体的量进行控制，并且，根据这些测量数据从而确定是否有成分在受影响装置上的沉积物中被消耗。

主权项

1、一种使用工艺气体的真空处理系统，该工艺气体具有倾向于在该系统的真空排气路径中装置表面上产生沉积物的至少一种成分，该系统包括：位于该装置的真空排气路径上游的反应气喷射器，该反应气喷射器能够将反应气体注入到真空排气路径中以减小该至少一种成分在装置表面上产生沉积物的倾向；至少一个传感器，用于对存在于装置的真空排气路径上游的该至少一种成分的浓度进行测定以及用于对存在于装置的真空排气路径下游的该至少一种成分的浓度进行测定；以及控制器，其用于至少部分地基于上下游之间浓度之差而控制通过反应气喷射器喷注的反应气体的量。