发明名称 |
蚀刻设备 |
摘要 |
本实用新型公开了一种蚀刻设备,主要是于一蚀刻室内设有运送基板的送料导轮,以及一喷洒统,该喷洒统包含有多个喷源,喷源平均设置于蚀刻室上方,喷源为具有多个微小孔洞的喷嘴,喷源接受一接设于蚀刻室外部的药液工作槽供给药液。喷源以超高速喷洒出雾状药液,使蚀刻室弥漫雾状药液,当基板通过蚀刻室便能均匀的沾附药液于表面,达到蚀刻的目的。 |
申请公布号 |
CN201381281Y |
申请公布日期 |
2010.01.13 |
申请号 |
CN200920006953.3 |
申请日期 |
2009.03.16 |
申请人 |
亚智科技股份有限公司 |
发明人 |
李玟澄;陈麒文;铭 |
分类号 |
C03C15/00(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I |
主分类号 |
C03C15/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京华夏博通专利事务所 |
代理人 |
刘 俊;孙东风 |
主权项 |
1.一种蚀刻设备,其特征在于,该设备包含: 一蚀刻室; 一送料导轮,用以承载一基板,使该基板可通过该蚀刻室; 一喷雾统,其具有一接设在该蚀刻室外部的药液工作槽,以及与该药液工作槽以管路相连的多个喷源,喷源是平均设置于该蚀刻室上方并对应于送料导轮; 该药液工作槽以高压打入药液至所述喷源,所述喷源以高速喷出雾状的药液,使所述蚀刻室弥漫雾状药液。 |
地址 |
中国台湾桃园县 |