发明名称 光刻装置及用于校准该光刻装置的方法
摘要 光刻装置,包括基底台和用于控制基底台的移动的运动控制系统。该运动控制系统包括至少三个位置检测器,用于检测基底台的位置。为了测量基底台的位置和定向,每个位置检测器都包括一维或多维类型的光学编码器,这些光学编码器设置为共同提供至少六个位置值,为三个维度中的每一个维度提供至少一个位置值。至少三个光学编码器的三个或更多在三维坐标系中的不同位置处与基底台相连。运动控制系统设置为根据六个位置值中至少三个的子集来计算基底台在该三维坐标系中的位置,并根据六个位置值中至少三个的另一个子集来计算基底台相对于坐标系的定向。此外,描述了用于校准位置检测器的方法。
申请公布号 CN100580563C 申请公布日期 2010.01.13
申请号 CN200510087651.X 申请日期 2005.07.27
申请人 ASML荷兰有限公司 发明人 E·R·鲁普斯特拉;L·M·勒瓦斯尔;R·奥斯特霍特
分类号 G03F9/00(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I 主分类号 G03F9/00(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 王波波
主权项 1.一种光刻装置,包括:用于保持基底的基底台;用于调节辐射光束的照射器;用于支撑构图部件的支撑结构,所述构图部件给辐射光束赋予所需的图案;投影系统,其将带图案的光束投射到基底的目标部分上;以及用于控制基底台的移动的运动控制系统,该运动控制系统包括检测基底台的位置的多个位置检测器,该多个位置检测器中的至少三个各包括多维光学编码器,从而提供至少六个位置值,该光学编码器在三维坐标系中的不同位置处与基底台连接,其中为该三维坐标系的每一维度提供至少一个位置值,以及其中该运动控制系统用于根据六个位置值中至少三个的子集来计算基底台在该三维坐标系中的位置,并用于根据六个位置值中至少三个的另一个子集来计算基底台相对于该三维坐标系的定向;其中位置检测器包括:第一个二维编码器,用于测量基底台在三维坐标系的第一和第三维度的位置,第一编码器与基底台的第一侧机械连接,其中第一侧平行于第一维度,第二个一维编码器,用于测量在三维坐标系的第三维度的位置,第二编码器与基底台的第一侧机械连接,其中第一和第二编码器连接到第一侧上关于第一侧中间相对的部分,以及其中运动控制系统根据第一编码器的位置值确定在第一维度的位置,并根据第一和第二编码器的位置值确定基底台绕第二维度的旋转。
地址 荷兰维尔德霍芬