METHOD OF MANUFACTURING SILICON NITRIDE FILM, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND SEMICONDUCTOR DEVICE,申请号KR20040108818-传众专利搜索

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发明名称	METHOD OF MANUFACTURING SILICON NITRIDE FILM, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号	KR100936685(B1)	申请公布日期	2010.01.13
申请号	KR20040108818	申请日期	2004.12.20
申请人		发明人
分类号	H01L21/205	主分类号	H01L21/205
代理机构		代理人
主权项
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