发明名称 |
通过处理印模表面在基底上形成功能性材料的图案的方法 |
摘要 |
本发明提供了一种在基底上形成功能性材料的图案的方法。所述方法使用具有浮雕结构和至少10兆帕的弹性模量的弹性印模,所述浮雕结构具有凸起表面。对印模的至少凸起表面进行处理,处理方法是使印模暴露于热、辐射、电子、带电气流、化学流体、化学蒸汽、以及它们的组合以增强所述表面的润湿性。将功能性材料与液体的组合物施加到浮雕结构上,并移除所述液体以便在凸起表面上形成薄膜。弹性印模将功能性材料从所述凸起表面转移到基底上,从而在基底上形成功能性材料的图案。所述方法适于制造用于电子器件和组件的微电路。 |
申请公布号 |
CN101627337A |
申请公布日期 |
2010.01.13 |
申请号 |
CN200880007421.X |
申请日期 |
2008.03.20 |
申请人 |
E.I.内穆尔杜邦公司 |
发明人 |
G·B·布朗谢特;李喜现;G·D·杰科克斯 |
分类号 |
G03F7/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/00(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 |
代理人 |
朱黎明 |
主权项 |
1.在基底上形成功能性材料的图案的方法,所述方法包括:a)提供具有浮雕结构的弹性印模,所述浮雕结构具有凸起表面,所述印模具有至少10兆帕的弹性模量;b)对所述弹性印模的至少凸起表面进行处理;c)将包含所述功能性材料及液体的组合物施加到所述浮雕结构上;d)从所述浮雕结构上的组合物中移除所述液体,以便在至少所述凸起表面上形成所述功能性材料的薄膜;以及e)将所述功能性材料从所述凸起表面转移到所述基底上。 |
地址 |
美国特拉华州 |