发明名称 | 成像设备、聚焦方法、聚焦控制方法 | ||
摘要 | 一种成像设备,其实现了高速自动聚焦操作并减少了功耗,以及防止由于错误测定引起的误聚焦。该成像设备具有自动聚焦功能,其检测聚焦透镜的当前位置。在被检测的聚焦透镜的当前位置附近的有限范围被指定为聚焦范围。聚焦透镜的可移动范围根据被指定的聚焦范围而改变。 | ||
申请公布号 | CN100581221C | 申请公布日期 | 2010.01.13 |
申请号 | CN200710140736.9 | 申请日期 | 2005.01.14 |
申请人 | 株式会社理光 | 发明人 | 白石贤二 |
分类号 | H04N5/232(2006.01)I | 主分类号 | H04N5/232(2006.01)I |
代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 邵亚丽;钱大勇 |
主权项 | 1.一种成像设备,其中微距模式和普通模式之一是可选择的,微距模式用于将拍摄范围设置为比预定范围短的距离范围,普通模式用于将拍摄范围设置为比预定范围长的距离,该成像设备包括:聚焦控制装置,用于当移动聚焦透镜并在聚焦点停止聚焦透镜时,连续地检测聚焦点,从而执行自动聚焦操作;其特征在于:范围控制装置,用于当以所述微距模式拍摄并且满足预定条件时,通过将聚焦透镜的可移动范围限制为比全部聚焦范围窄的有限范围,而使得所述聚焦控制装置执行自动聚焦操作,其中比全部聚焦范围窄的有限范围具有前一聚焦点。 | ||
地址 | 日本东京都 |