发明名称 狭缝喷嘴的横向喷射均匀度测量装置及方法
摘要 本发明涉及测量基板涂敷装置(Substrate Coating Apparatus)的狭缝喷嘴(Slit Nozzle)所喷出的光刻胶的横向喷射均匀度的装置及方法。依据本发明所提供的狭缝喷嘴的横向喷射均匀度测量装置包含具有与所述狭缝喷嘴的喷出口相对的检测面的多个流体压力测量单元,所述流体压力测量单元沿所述狭缝喷嘴的横向并排。
申请公布号 TWI319335 申请公布日期 2010.01.11
申请号 TW096118399 申请日期 2007.05.23
申请人 K C 科技股份有限公司 发明人 赵康一
分类号 B05C5/02;B05D1/26 主分类号 B05C5/02
代理机构 代理人 陈长文
主权项 一种喷射均匀度测量装置,用于测量狭缝喷嘴的喷射均匀度,其特征在于包含:沿所述狭缝喷嘴的横向并排的多个流体压力测量单元,该流体压力测量单元具有与所述狭缝喷嘴的喷出口相对的流体压力检测面,并测量所述喷出口所喷出的流体的喷射压力;控制单元,该控制单元计量施加在所述流体压力测量单元上的喷射压力而算出均匀度,并进行显示。
地址 南韩