发明名称 Emitter for electron-beam projection lithography system and method of manufacturing thereof
摘要
申请公布号 KR100935934(B1) 申请公布日期 2010.01.11
申请号 KR20030016288 申请日期 2003.03.15
申请人 发明人
分类号 G03F7/20;H01L21/027;H01J1/312;H01J9/02;H01J37/06;H01J37/073;H01J37/305 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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