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发明名称 Anordnung und Verfahren zur Plasmabehandlung eines Substrates
摘要
申请公布号 DE102004043967(B4) 申请公布日期 2010.01.07
申请号 DE200410043967 申请日期 2004.09.11
申请人 ROTH & RAU AG;SCHLEMM, HERMANN 发明人 ROTH, DIETMAR;MAI, JOACHIM;SCHLEMM, HERMANN
分类号 H05H1/46 主分类号 H05H1/46
代理机构 代理人
主权项
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