| 发明名称 |
Binary and phase-shift photomasks |
| 摘要 |
The present invention relates to photomasks for use in semiconductor chip manufacture. |
| 申请公布号 |
AU2002250306(A8) |
申请公布日期 |
2010.01.07 |
| 申请号 |
AU20020250306 |
申请日期 |
2002.03.12 |
| 申请人 |
DIVERGING TECHNOLOGIES, INC. |
发明人 |
JIM G. CAMPI;DOUGLAS J. VAN DEN BROEKE |
| 分类号 |
G03F9/00;G03F1/00;G03F1/32;G03F1/48;G21K5/00 |
主分类号 |
G03F9/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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