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发明名称 In-situ-Metallbarriereablagerung für Sputterätzen auf einer Verbindungsstruktur
摘要
申请公布号 DE102004017411(B4) 申请公布日期 2010.01.07
申请号 DE200410017411 申请日期 2004.04.08
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG;INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORP.;UNITED MICROELECTRONICS CO. 发明人 COWLEY, ANDY;FANG, SUNFEI;WANG, YUN-YU;CLEVENGER, LARRY;SIMON, ANDREW H.;GRECO, STEPHEN;CHANDA, KAUSHIK;SPOONER, TERRY;YANG, CHIH-CHAO
分类号 H01L21/285;H01L21/768 主分类号 H01L21/285
代理机构 代理人
主权项
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