发明名称 |
TFT SAS存储单元结构 |
摘要 |
本发明提供具有薄膜晶体管(TFT)硅-氧化铝-硅(SAS)存储单元结构的器件。该器件包括衬底、在衬底上的介电层和嵌入该介电层的一个或多个源极或漏极区。介电层与第一表面相联。一个或多个源极或漏极区的每个包括在扩散势垒层上的N<sup>+</sup>多晶硅层,所述扩散势垒层在导电层上。该N<sup>+</sup>多晶硅层具有与第一表面基本共面的第二表面。另外,所述器件包括覆盖所述共面表面的P<sup>-</sup>多晶硅层、覆盖所述P<sup>-</sup>多晶硅层的氧化铝层和覆盖所述氧化铝层的至少一个控制栅极。在一个具体的实施方案中,该控制栅极用高度掺杂的P<sup>+</sup>多晶硅层制成。本发明提供了制造TFT SAS存储单元结构的方法,并可以重复以三维集成所述结构。 |
申请公布号 |
CN101621037A |
申请公布日期 |
2010.01.06 |
申请号 |
CN200810040293.0 |
申请日期 |
2008.07.03 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
三重野文健 |
分类号 |
H01L21/84(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I;H01L29/786(2006.01)I;H01L29/51(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/84(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 |
代理人 |
刘继富;顾晋伟 |
主权项 |
1.一种制造薄膜晶体管(TFT)硅-氧化铝-硅(SAS)存储单元结构的方法,所述方法包括:提供衬底;在所述衬底上形成第一绝缘层;在所述第一绝缘层上形成一个或多个源极或漏极区,所述一个或多个源极或漏极区的每个与第一表面相联并包括N+多晶硅层、势垒层、和导电层,所述N+多晶硅层在所述势垒层上,所述势垒层覆盖所述导电层,所述第一表面由N+多晶硅构成;在所述第一绝缘层上形成第二绝缘层,所述第二绝缘层与第二表面相联,所述第二表面与所述第一表面基本共面;形成覆盖所述第一表面和第二表面的P-多晶硅层,所述P-多晶硅层能够形成从所述源极区到所述漏极区的沟道;形成覆盖所述P-多晶硅层的氧化铝层;形成覆盖所述氧化铝层的P+多晶硅层;和通过图案化所述P+多晶硅层形成至少一个控制栅极。 |
地址 |
201210上海市浦东新区张江路18号 |