| 发明名称 | 基板处理装置以及处理方法 | ||
| 摘要 | 提供一种可适合进行半曝光工艺的基板处理装置以及处理方法。整体性配置进行基板传送的基板传送机构(12)、用于对基板实施药液处理的药液处理单元(21)、用于对基板实施显影处理的显影处理单元20。或整体性配置进行基板传送的基板传送机构(12)、用于对基板实施药液处理的第1药液处理单元(21)、用于对基板实施药液处理的第2药液处理单元(21)。或整体性配置进行基板传送的基板传送机构(12)、用于对基板实施显影处理的第1显影处理单元(20)、用于对基板实施显影处理的第2显影处理单元(20)。 | ||
| 申请公布号 | CN101620382A | 申请公布日期 | 2010.01.06 |
| 申请号 | CN200910007455.5 | 申请日期 | 2004.09.17 |
| 申请人 | NEC液晶技术株式会社 | 发明人 | 城户秀作 |
| 分类号 | G03F7/30(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/30(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 樊卫民;郭国清 |
| 主权项 | 1.一种基板处理装置，包括用于对基板实施显影处理的显影处理单元，其中，所述显影处理单元分复数次处理所述基板，并且具有使所述基板在每次处理时朝向不同方向的机构。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县川崎市 | ||