发明名称 | 工艺、设备和器件 | ||
摘要 | 本发明提供一种光刻设备,其包括构造成调节辐射束的照射系统、用于图案形成装置的支撑结构、用于衬底的衬底台、投影系统和控制系统。图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以形成图案化的辐射束。投影系统构造成将图案化的辐射束作为图像沿扫描路径投射到衬底的目标部分上。扫描路径由光刻设备的曝光场的扫描方向上的轨迹限定。控制系统耦合到支撑结构、衬底台和投影系统上用于分别控制支撑结构、衬底台和投影系统的动作。控制系统构造成通过在沿扫描路径的区域中临时的图像调节来校正该区域内的图像的局部变形。 | ||
申请公布号 | CN101622581A | 申请公布日期 | 2010.01.06 |
申请号 | CN200780050777.7 | 申请日期 | 2007.12.03 |
申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | E·C·莫斯;M·范德斯卡;H·J·G·西门斯 |
分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 王新华 |
主权项 | 1.一种用于在衬底的目标场上形成交叠图案的工艺,包括步骤:在所述交叠图案之间提供重叠误差,所提供的重叠误差对应于根据所述工艺的模型的至少一个工艺参数中的每一个工艺参数的建议值对所述工艺的控制;通过将所述模型与包括所提供的重叠误差和至少一个工艺参数中的每一个工艺参数的建议值的数据相匹配,为对应于最小重叠误差的所述至少一个工艺参数中的每一个工艺参数确定值;形成所述交叠图案,由此根据所述至少一个工艺参数中的每一个工艺参数的所确定的值控制所述工艺;其特征在于:根据所述至少一个工艺参数中的每一个工艺参数的第一确定值形成所述交叠图案中的一个图案的第一部分,并且根据所述至少一个工艺参数中的每一个工艺参数的第二确定值形成所述交叠图案中的所述一个图案的第二部分,其中所述第一值与所述第二值不同。 | ||
地址 | 荷兰维德霍温 |