基片支撑单元、单一类型基片抛光装置和基片抛光方法

摘要

本发明提供了一种基片支撑单元和使用该基片支撑单元的单一类型基片抛光装置。在抛光处理期间，利用真空吸力，基片的底部表面被吸附于基片支撑单元；在后清洁处理期间，基片由基片支撑单元支撑，置于基片支撑单元上部的空间中，以清洁基片的底部表面。因此，根据基片支撑单元和使用该基片支撑单元的基片抛光装置，在由单一类型基片支撑单元支撑基片的状态下，可以顺序执行用于抛光基片表面的处理和用于清洁基片的顶部和底部表面的后处理。

主权项

1.一种基片支撑单元，包括：真空板，基片利用真空吸力吸附到该真空板上；支撑板，设置在真空板下方的预定距离处，并且该支撑板上设置有卡紧部件以夹紧基片；和驱动部件，其被配置以向上和向下运动真空板或支撑板，以使卡紧部件在基片位于支撑板的上部空间中时支撑基片。