| 发明名称 | 等离子体处理装置及等离子体处理装置的使用方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种等离子体处理装置及等离子体处理装置的使用方法。等离子体处理装置(10)，具有：由金属形成的处理容器(100)、输出微波的微波源(900)、面向处理容器(100)的内壁并向处理容器内透过自微波源(900)输出的微波的电介质板(305)、和在处理容器的内面设置的作为传播阻碍部发挥功能的槽(300a)。在供给低频微波的情况下，通过槽(300a)抑制导体表面波的传播。 | ||
| 申请公布号 | CN101622912A | 申请公布日期 | 2010.01.06 |
| 申请号 | CN200880006453.8 | 申请日期 | 2008.06.11 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社;国立大学法人东北大学 | 发明人 | 平山昌树;大见忠弘 |
| 分类号 | H05H1/46(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I | 主分类号 | H05H1/46(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 李 伟;舒艳君 |
| 主权项 | 1.一种等离子体处理装置，通过电磁波激发气体而对被处理体实施等离子体处理，其特征在于，具备：由金属形成的处理容器、输出电磁波的电磁波源、面向上述处理容器的内壁并向上述处理容器内透过从上述电磁波源输出的电磁波的电介质板、和在上述处理容器的内面设置的传播阻碍部。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||