像素结构及其制造方法

摘要

本发明揭示一种像素结构及其制造方法。其中像素结构包括一基板、一扫描线、一数据线、一共用线、一有源元件、一像素电极、一绝缘层与一保护层，其中扫描线、数据线与共用线配置于基板上。有源元件电性连接至扫描线与数据线。像素电极电性连接至有源元件。绝缘层覆盖共用线。保护层覆盖有源元件与共用线上方的绝缘层。其中，共用线上方的绝缘层与保护层的总厚度，以远离共用线的方向渐缩。

主权项

1.一种像素结构，包括：一基板；一扫描线，配置于该基板上；一数据线，配置于该基板上；一共用线，配置于该基板上；一有源元件，配置于该基板上，且该有源元件电性连接至该扫描线与该数据线；一绝缘层，由该有源元件中延伸出并至少覆盖该共用线；一保护层，覆盖该有源元件并延伸至该共用线上方的绝缘层上，其中对应于该共用线上方的该保护层与该绝缘层中具有一凹陷，以使该绝缘层与该保护层的总厚度，以远离该共用线的方向渐缩；以及一像素电极，配置于该保护层上，并电性连接至该有源元件。