发明名称 具有增透效应薄膜的发光二极管及其制备方法
摘要 本发明涉及发光二极管领域,旨在提供一种具有增透效应薄膜的发光二极管,包括LED发光芯片、反光碗和LED发光芯片的引出导线,LED发光芯片置于反光碗内,LED发光芯片和反光碗封装于封装胶体内;所述LED发光芯片的出光面镀有电介质氧化物增透薄膜;LED发光芯片、电介质氧化物增透薄膜、封装胶体组成的膜系结构为Sub1/(HL)^n/Sub2,Sub1为LED发光芯片的半导体材料,Sub2为封装胶体,L为镀膜的低折射率电介质氧化物材料,H为镀膜的高折射率电介质氧化物材料,2n为膜层总数,n=1-60;L、H均为电介质材料中的钛、钽、铪、硅、锆、锡、锌、锗、铝中的一种的氧化物。
申请公布号 CN101621106A 申请公布日期 2010.01.06
申请号 CN200910101320.5 申请日期 2009.07.30
申请人 中国计量学院 发明人 王乐;金尚忠;李晓艳;袁坤
分类号 H01L33/00(2006.01)I 主分类号 H01L33/00(2006.01)I
代理机构 杭州赛科专利代理事务所 代理人 陈 辉
主权项 1、一种具有增透效应薄膜的发光二极管,其特征在于包括LED发光芯片、反光碗和LED发光芯片的引出导线,LED发光芯片置于反光碗内,LED发光芯片和反光碗封装于封装胶体内;所述LED发光芯片的出光面镀有电介质氧化物增透薄膜;LED发光芯片、电介质氧化物增透膜、封装胶体组成的膜系结构为Sub1/(HL)^n/Sub2,Sub1为LED发光芯片的半导体材料,Sub2为封装胶体,L为镀膜的低折射率电介质氧化物材料,H为镀膜的高折射率电介质氧化物材料,2n为膜层总数,n=1-60;L、H均为电介质材料中的钛、钽、铪、硅、锆、锡、锌、锗、铝中的一种的氧化物。
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